물질표면의 개질을 목적으로 하는 성막법(成膜法)의 하나로 물리기상증착(physical vapor deposition, PVD)의 일종. 원리를 그림에 표시하였다. 진공증착과 같은 방법으로 보트속에서 증발시킨 원자를 글로우 방전가스(플라스마) 속을 통과시킴에 의해 일부원자를 이온화하여 이온화원자를 기판(基板)표면에 조사하면서 증발물질을 석출시킨다. 일반으로 글로우방전의 발생을 위해 5~25m Torr의 아르몬을 도입하여 증발원과 기판사이에 2~5k V의 직류전압을 인가한다. 생성피막은 밀도가 높고 핀홀이 적으며 밀착성이 우수한 것이 특징으로 수 수10μm의 두꺼운 막 형성법으로서 유효하다. 절삭(切削)공구의 세라믹화 금속의 장식 유리ㆍ플라스틱의 표면 금속화 광학렌즈 표면의 산화피막형성 반도체소자의 제조 등에 응용되고 있다.